Cryofox Explorer 700: Полное руководство по использованию и обслуживанию

Сгуоюх 7’ ПУХ < МНОГОФУНКЦИОНАЛЬНАЯ УСТАНОВКА ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК В О ДЕСТР 7ДИИ

Стр. 1

$ Ехр!огег 700 это базовая установка магнетронного и электро- нно-лучевого осаждения тонких пленок для особо требовательных применений. Концепция системы объединяет идеальные возможности для получения оптических покрытий, “НЕ ОН” технологии, МЕМ$ приложений и широкого спектра исследовательских применений. ® я СгуоюЮх ЕхрИогег 7 Специальная двойная конструкция вакуумной камеры с загрузочным шлюзом обеспечивает большое расстояние от подложки до электронно-лучевого источника и малое расстояние до магнетронов. Благодаря свободному выбору электронно-лучевых источников и магнетронов могут быть получены пленки с большим количеством слоев в одной установке без разрыва вакуума.

В технологии “НЯ ОЁ” требуется очень равномерное (прямолинейное) осаждение материала. Ехр!огег 700 благодаря очень большому расстоянию между подложкой и ионными источниками задает новые стандартны качества осаждения в “НО” технологии. Такое расположение источников является также предпочтительным для классического электроннолучевого осаждения оптических покрытий. Если установка оснащена магнетронами, то их наличие делаетустановку наиболее приспособленной для получения современных оптических покрытий.

В области МЕМ$ технологий Ехр!огег 700 имеет уникальное преимущество благодаря возможности выбора между осаждением на всю поверхность подложки (магнетронное осаждение высокого давления) или направленным осаждением с использованием электронно-лучевого источника. Наличие шлюзовой ту распыляемых после загрузки загрузочной материалов камеры от окисления обеспечивает и быструю защи- откачку подложки. Ехр!огег 700 отлично подходит как для реактивного, так и для нереактивного осаждения. Ехр!огег 700 спроектирована сучетом возможности установки вчистых комнатах.

Расстояние между источниками электронно-лучевой 150 мм источник Камера из высококачественной рованной нержавеющей стали и подложкодержателем: - 1060 мм, магнетроны электрохимически поли- Управление наклоном и вращением подложки Нагрев подложки Охлаждение подложки (опция) ав ван Совместное осаждение го магнетрона с использованием и магнетрона постоянного высокочастотнотока. |. -

Стр. 2

Электронно-лучевой источник (одно- или многотиглевый, свозможностью совместного осаждения) Полностью Дочетырех ОС/ВЕ магнетронов 6” Полностью автоматическое или ручное управление системой Один или несколько резистивных испарителей (опцио- процесса для автоматический идеального контроль технологического результата нально) Встроенная система М/Лпао\$ ХР для удобства оператора Плазменная очистка (травление) в шлюзовой камере Очень меню Ионноеассистирование (опционально) удобная операторская панель с продуманным Возможность полного удаленно управления через |т(егпе{ (опция) Система протоколирования (опция) Пластинчато-роторный насос Турбомолекулярный насос или спиральный или криогенный форвакуумный Кварцевый измеритель толщины пленки, интегрированный в систему управления установкой Квадрупольный масс-спектрометр (опция) высоковакуумный Один или несколько цифровых регуляторов потока газов Водяное охлаждение Чиллер (опционально)

Стр. 3

А щЩщ АЕ е5 Е Е Е Ш = © з бес <“ |=. бе = : || СВ . ва ь а ВЕЕ! ЕЕ 400 = 1202 1202 Ш < о { а = Г + РОГУТЕКМК —Ж НОЧ$Е ОЕ СОАТИМС ТЕСНМОГОСУ РОИУТЕКМКА$ | Мое|ераде 21 | ОК-9750 Ое$егугаа РНопе: +45 9689 2800 | Гах: +45 9689 2801 | Е-тай: за!е @ро\(екпК.ак

Стр. 4